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众所周知，当前工业清洗剂主要分为溶剂型和水基型两种，那么在实际应用中它们又有哪些区别呢？
1、 方面：
碳氢清洗剂属于ods类物质，对---臭氧层有破坏作用，属于控制物质，水基溶剂是的、---的，可直接排放。
2、 设备方面：
水基型清洗后要用纯水漂洗，并需烘干，用电量稍大一些，同时占地面积相对较大，设备成本也对较高。机电设备清洗剂清洗后能自然发挥，工位相对较少，耗电量约低于水基清洗设备，它的占地面积相对较小。
3、 清洗效果方面
碳氢清洗剂采用的是直接溶解所以超声波清洗速度快，周期短，效果直接，。水基清洗是采用洗剂替换的方式，并且是两次替换次是溶剂替换油污等杂质，第二次是纯水替换溶剂，替换后还需要烘干，故相对清洗时间较长，但水基清洗后没有残留问题。
4、 使用成本方面
溶剂型清洗剂使用原液清洗， 虽然可以重复使用，但由于其高挥发性，及产品的粘附性，其用量十分大。水基溶剂均是兑水使用，单价虽然约高于有机1溶剂，但用量小。水基漂洗需用纯水，但纯水的制水成本较低。
综上所述，两种清洗均能达到清洗效果，水基清洗的使用成本低，安全、。但设备复杂，溶剂型清洗剂清洗速度快、挥发快。
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溶剂净化系统是不使用传统的蒸馏方法提纯或者改良溶剂和化学---的设备，您可以购买、低纯度的工业级溶剂，然后将它们使用溶剂净化系统提纯改良至实验室等级或更高的等级，而取代购买昂贵的高纯度的溶剂。这不仅仅会降低成本，而且可以---随时供应足够的所需纯度的溶剂。可以提纯的溶剂有: benzene、hexanes、hexane、toluene、thf、pentane、ethers、 acetonitrile、methylene chloride、methanol、pyridine、deuterated、dme、chloroform、hephane、chlorobenzene etc.
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利用惰性气体将储液器溶中的溶剂压入净化柱中，溶剂中的o2等杂质与除氧器中的氧化物作用，生成金属氧化物，以实现---脱氧：
2xm+yo2***2mxoy室温
脱氧后的气体进人吸附器中，h2o等强吸附质被吸附剂吸附后，即得到高纯溶剂，可直接取用。
除氧器、吸附器经较长时间的工作，脱氧和吸附能力会逐渐下降，当除氧器或除水器快要饱和失效时，就应停止使用，并对失效的塔进行再生，定制溶剂净化器系统，再生后的净化柱又可继续使用。
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